硅基氮化镓外延片(GaN-on-Si)是当下量产规模最大、性价比最优的第三代半导体基材方案,依托硅衬底成熟产业链,凭借高效率、低成本优势,成为快充电源、工业工控、中小功率射频器件的核心原材料。很多电源厂商、芯片设计企业、科研院所采购选型时,优先选用硅基氮化镓外延片,其中6 寸硅基氮化镓外延片是目前市场量产主力,8 寸硅基氮化镓外延片逐步落地规模化生产,4 寸硅基氮化镓外延片多用于研发试样与小批量定制。
1. 硅基氮化镓外延片基础定义与生产原理
硅基氮化镓外延片是以单晶硅片作为底层衬底,采用 MOCVD 气相外延工艺,在硅衬底表面依次生长缓冲层、GaN 沟道层、AlGaN 势垒层形成的异质外延晶圆。不同于碳化硅、蓝宝石基氮化镓,硅衬底原材料供应链成熟、采购成本更低,适配现有半导体芯片产线,也是国产氮化镓产业化落地最快的路线。生产环节对厚度均匀性、缺陷密度、晶圆翘曲度管控严苛,直接决定后续芯片成品良率。
2. 4 寸 / 6 寸 / 8 寸硅基氮化镓外延片规格区别
4 寸硅基氮化镓外延片:尺寸小、定制灵活,主打高校实验室研发、新品方案验证、特种小功率器件打样,下单起订量低、交付周期短。
6 寸硅基氮化镓外延片:商用量产标杆规格,市面绝大多数快充芯片、工业开关电源均采用6 寸硅基氮化镓外延片,单片出芯数量、生产成本、量产良率综合性价比最优。
8 寸硅基氮化镓外延片:新一代降本方案,大尺寸晶圆进一步分摊单片成本,面向大功率服务器电源、高密度集成电源项目,是 2026 年行业扩产主流方向。
3. 硅基氮化镓外延片核心性能优势
第一,成本优势突出,硅衬底量产工艺成熟,相较碳化硅氮化镓外延片采购价格大幅降低,适合大批量规模化备货;
第二,工艺兼容性强,硅基晶圆可沿用传统硅基芯片制造产线,无需大额产线改造;
第三,开关损耗低、导通效率高,用硅基氮化镓外延片制作的功率芯片,电源能效远优于传统硅 MOS 器件;
第四,尺寸拓展性强,从 4 寸到 8 寸全尺寸均可稳定量产,适配不同阶段企业产品迭代需求。
4. 硅基氮化镓外延片主流应用场景
消费电子快充领域:手机、笔记本、平板氮化镓快充适配器,是硅基氮化镓外延片最大下游市场;
工业电源领域:工控开关电源、充电桩辅助电源、小型光伏逆变电源;
通信射频领域:小功率 5G 微基站、无线射频发射器件;
服务器电源:数据中心中小功率电源模块,8 寸硅基氮化镓逐步渗透;
科研研发:各大高校、半导体研究所新材料实验、器件研发,常用 4 寸硅基氮化镓外延片。
5. 采购硅基氮化镓外延片三大选型要点
① 区分试样料与量产料:不少厂商样品参数优异,量产批次良率波动大,采购硅基氮化镓外延片务必核验量产批次检测报告;
② 根据产品规格选晶圆尺寸:量产快充优先 6 寸硅基氮化镓外延片,研发试样选 4 寸,大规模量产降本选用 8 寸;
③ 确认定制能力:部分项目需要定制外延层厚度、掺杂参数,优选支持非标定制的源头生产厂家。
6. 硅基氮化镓外延片配套芯片代加工服务
多数 Fabless 芯片企业没有自建芯片制程产线,采购硅基氮化镓外延片后,同步需求硅基氮化镓芯片代加工。一站式代工包含外延定制、光刻、刻蚀、薄膜沉积、电性全检全流程,客户只需要提供芯片设计方案,即可拿到成品晶圆,省去多方对接成本。
7. 安徽进步半导体硅基氮化镓量产实力
安徽进步半导体实现4 寸、6 寸、8 寸硅基氮化镓外延片全尺寸稳定量产,可按需定制外延结构、电性参数,量产批次缺陷密度、厚度均匀性严格对标工业标准。除标准外延片供货外,配套硅基氮化镓芯片代加工一站式服务,可提供样片申领、小批量试产、大批量订单交付,适配快充、工业电源、射频等全产业链采购需求。